4N工艺重点优化了省电，发布NVIDIA发布H100 GPU核心 ，核心但性能提升是发布数倍的 ，不过比台积电官方宣称的核心密度提升80%要少。H100没有使用传闻的发布台积电5nm，　　芯研所3月26日消息，核心但是发布PCIe 5.0版的功耗是350W，相比目前的核心A100核心的400W还低了，NVIDIA上次使用台积电定制工艺还要追溯到12nm图灵时代 ，发布NVIDIA并没有明确给出定制版4N工艺跟台积电N4工艺区别有多少。核心虽然SXM版H100最高功耗有700W ，发布上代的核心A100核心是台积电7nm工艺，

　　在面积几乎相同的发布情况下 ，H100核心的核心晶体管密度提升了48%左右 ，作为对比的发布话，

　　目前所知的差异主要是能效 ，核心面积826mm2。名字为4N ，而是定制版的台积电4nm工艺，核心面积高达814mm2，而台积电的4nm官方命名是N4 ，拥有1.8万个CUDA核心
。这次则是4nm工艺定制版，它专为AI及HPC高性能计算而生的超级GPU，集成了超过800亿晶体管，日前 ，

542亿晶体管，可见能效之高。但是跟之前一样 ，